≪終了≫第1回ARIM量子・電子マテリアル領域セミナー　ALD（原子堆積）による成膜技術を開催いたします

【第1回ARIM量子・電子マテリアル領域セミナー　ALD（原子堆積）による成膜技術】を開催いたしました。
たくさんのご参加、ありがとうございました。

講演資料を下記よりダウンロード可能です。
第１回ARIM量子・電子マテリアル領域セミナー ALD（原子層堆積）による成膜技術 (tia-kyoyo.jp)

【セミナー内容：第1回ARIM量子・電子マテリアル領域セミナー　ALD（原子堆積）による成膜技術】

■概要
　　産業技術総合研究所、北海道大学は、令和３年度からスタートした文部科学省委託事業である「マテリアル先端リサーチインフラ　　　　事業（ARIM）」の一環として、『ALDによる成膜技術』というテーマで、Teamsオンラインによる技術セミナーを2022年12月22日（金）に開催します。ALDの基礎から様々な成膜事例、アプリケーションについて紹介いたします。産学官いずれのご所属の方にも奮ってのご参加をお待ちしています。

■日時
　　令和4年12月22日（木）12:55～17:20

■Microsoft Teamsによるオンライン

■参加費
　　無料

■定員
　　150 名(先着順、お早めの参加登録をお願いします)

■セミナー案内・参加申し込み
　　https://www.tia-kyoyo.jp/npf/seminar/2022-1/


■主催
　　産業技術総合研究所TIA推進センター　ナノプロセシング施設（NPF）
　　北海道大学電子科学研究所ナノテク連携推進室

■共催
　　TIA

■協賛
　　TSCナノエレクトロニクス計測分析技術研究会