共用装置
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マニュアルスパッタ Manual Sputter
- 機器ID
- ARIM登録番号：HK-XXX GFC装置番号：AP-200089
- メーカー名（英語表記）
- 自作
- 装置の特長及び仕様
成膜したい材料を装着させることが可能
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/1580
微細形状測定機(段差計) Microfigure Measuring Instrument
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-630 GFC装置番号：AP-200088
- メーカー名（英語表記）
- 株式会社 小坂研究所(Kosaka Laboratory Ltd.)
- 型番
- ET200A
- 装置の特長及び仕様
最大サンプルサイズΦ160×厚さ52mm
再現性1σ 0.3nm以内
測定範囲 Z：600μm X：100mm
分解能Z：0.1nm X：0.1μm
測定力10μN～500μN装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/1579
卓上型ランプ加熱装置
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-628 GFC装置番号 ：AP-200084
- メーカー名（英語表記）
- アドバンス理工
- 型番
- MILA-5000
- 装置の特長及び仕様
温度範囲：RT ～ 1200℃
試料寸法：角 20mm × 厚 2mm
加熱雰囲気：大気中、真空中、不活性ガス中
到達真空度：6.5Pa（RP*1使用、室温無負荷）装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/rsv_top/1553
ガラスインプリント装置
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-629 GFC装置番号 ：AP-200086
- メーカー名（英語表記）
- 芝浦機械株式会社(SHIBAURA MACHINE CO., LTD.)
- 型番
- GMP-415V
- 装置の特長及び仕様
温度範囲 0℃～800℃ (室温～800℃)
温度制御時間：0～999sec
軸ストローク：0～85mm
プレス力：0～40 kN
軸速度：0～15 mm/sec
真空到達度：0.001～100 Pa
サンプルサイズ：25mm角装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/rsv_top/1555
量子・電子制御ナノマテリアル顕微物性測定装置
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-107 GFC装置番号：AP-200085
- メーカー名（英語表記）
- 日本電子(JEOL)
- 型番
- JEM-ARM200F NEOARM
- 装置の特長及び仕様
加速電圧：200 kV, 80kV
分解能：STEM HAADF像 70pm(200kV), 100pm(80kV),
TEM情報限界 100pm(200kV), 110pm(80kV),
電子銃：冷陰極電解放出形電子銃
オプション：EDS、加熱・バイアス印加TEM二軸傾斜ホルダー超高圧電子顕微鏡室 denken[at]eng.hokudai.ac.jpへお問い合わせください。
