共用装置

微小加工装置

イオンミリング(TEM試料作製)

精密イオン研磨装置 Precision ion polishing system

機器ID
ARIM装置番号:HK-407 GFC装置番号:AP-200079
メーカー名(英語表記)
ガタン(Gatan)
型番
PIPSII
装置の特長及び仕様

イオン加速電圧:1 ~ 6 kV
イオン入射角:最大±10°
液体窒素冷却装置
TVカメラ

 

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1519

集束イオンビーム(FIB)

集束イオンビーム加工観察装置

機器ID
ARIM装置番号:HK-105 GFC装置番号 :AP-200081
メーカー名(英語表記)
日本電子(JEOL)
型番
JEM-9320FIB
装置の特長及び仕様

イオン源:Ga液体金属イオン源
加速電圧:5~30kV(5kVステップ)
倍率:×50(視野探し)、×150~300,000
像分解能:6nm(30kV時)
稼働絞り5段(モーター駆動)
イオンビーム加工形状:矩形、ライン、スポット
試料ステージ:TEM試料サイドエントリー、ゴニオメータステージ

超高圧電子顕微鏡室 denken[at]eng.hokudai.ac.jpへお問い合わせください。

集束イオンビーム加工装置 FIB

機器ID
HK-105
メーカー名(英語表記)
日本電子(JEOL)
型番
JEM-9320FIB
装置の特長及び仕様

・イオン加速電圧:5 ~ 30 kV
・倍率:150(50)~300,000
・真空系:ターボ分子ポンプ(TMP)、ロータリーポンプ(RP)
・チップオンホルダー
・バルクホルダー
・ピックアップ装置
・遠隔観察装置

 

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集束イオンビーム加工・観察装置 Focused Ion Beam and Scanning Electron Microscope system(FIB-SEM)

機器ID
ARIM装置番号:HK-304 GFC装置番号:AP-200046
メーカー名(英語表記)
日本電子(JEOL)
型番
JIB-4600F/HKD
装置の特長及び仕様

加速電圧:1~30kV
分析機能:EDS、EBSD、3D観察
像分解能:5nm(30kV)

 

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1407

集束イオンビーム加工装置 Focused Ion Beam system

機器ID
ARIM装置番号:HK-403 GFC装置番号:AP-200042
メーカー名(英語表記)
日立ハイテク(Hitachi High-Tech)
型番
FB-2100
装置の特長及び仕様

イオン加速電圧:5 ~ 30 kV
サイドエントリーステージ
バルクステージ
マイクロサンプリング機能

 

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1404