共用装置
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熱処理・ドーピング
熱処理、レーザーアニール
卓上型ランプ加熱装置
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-628 GFC装置番号 ：AP-200084
- メーカー名（英語表記）
- アドバンス理工
- 型番
- MILA-5000
- 装置の特長及び仕様
温度範囲：RT ～ 1200℃
試料寸法：角 20mm × 厚 2mm
加熱雰囲気：大気中、真空中、不活性ガス中
到達真空度：6.5Pa（RP*1使用、室温無負荷）装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/rsv_top/1553
