共用装置
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集束イオンビーム加工観察装置
- 機器ID
- ARIM装置番号:HK-105 GFC装置番号 :AP-200081
- メーカー名(英語表記)
- 日本電子(JEOL)
- 型番
- JEM-9320FIB
- 装置の特長及び仕様
イオン源:Ga液体金属イオン源
加速電圧:5~30kV(5kVステップ)
倍率:×50(視野探し)、×150~300,000
像分解能:6nm(30kV時)
稼働絞り5段(モーター駆動)
イオンビーム加工形状:矩形、ライン、スポット
試料ステージ:TEM試料サイドエントリー、ゴニオメータステージ超高圧電子顕微鏡室 denken[at]eng.hokudai.ac.jpへお問い合わせください。
ダブル球面収差補正走査透過型電子顕微鏡 Double Cs-corrected scanning transmission electron microscope
- 機器ID
- ARIM登録番号:HK-101 GFC装置番号:AP-200061
- メーカー名(英語表記)
- 日本FEI(FEI)
- 型番
- Titan3 G2 60-300
- 装置の特長及び仕様
・加速電圧:60kV-300kV
・TEM分解能:0.07nm、STEM分解能:0.07nm
・X-FEG電子銃
・モノクロメーター搭載
・照射系球面収差補正器
・結像系球面収差補正器
・Super-X EDS検出器
・Gatan GIF QuantumER分光器
・分析試料ホルダー、トモグラフィー試料ホルダー
・遠隔観察
・遠隔オペレーション装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1418
高分解能電界放射型走査型電子顕微鏡 Field emission electron microscope
- 機器ID
- ARIM装置番号:HK-625 GFC装置番号:AP-200017
- メーカー名(英語表記)
- 日本電子(JEOL)
- 型番
- JSM-6700FT
- 装置の特長及び仕様
加速電圧:5-30kV
EDS機能
試料サイズ:小片~25mm角装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1387
シリコン深掘りエッチング装置 Si Deep RIE System
- 機器ID
- ARIM装置番号:HK-624 GFC装置番号:AP-200073
- メーカー名(英語表記)
- SPPテクノロジーズ(SPP Technologies)
- 型番
- APX-Pegasus-Polestar
- 装置の特長及び仕様
使用ガス:SF6、C4F8、Ar、O2
試料サイズ:最大4インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-624_シリコン深堀りエッチング
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1449
イオンミリング装置 Ion milling system
- 機器ID
- ARIM装置番号:HK-623 GFC装置番号:AP-200015
- メーカー名(英語表記)
- アルバック(Ulvac)
- 型番
- IBE-6000S
- 装置の特長及び仕様
使用ガス:Ar
試料サイズ:最大3インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-623_イオンミリング
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1386