共用装置
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集束イオンビーム加工観察装置
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-105 GFC装置番号 ：AP-200081
- メーカー名（英語表記）
- 日本電子(JEOL)
- 型番
- JEM-9320FIB
- 装置の特長及び仕様
イオン源：Ga液体金属イオン源
加速電圧：5～30kV(5kVステップ)
倍率：×50(視野探し)、×150～300,000
像分解能：6nm(30kV時)
稼働絞り5段(モーター駆動)
イオンビーム加工形状：矩形、ライン、スポット
試料ステージ：TEM試料サイドエントリー、ゴニオメータステージ超高圧電子顕微鏡室 denken[at]eng.hokudai.ac.jpへお問い合わせください。
ダブル球面収差補正走査透過型電子顕微鏡 Double Cs-corrected scanning transmission electron microscope
- 機器ID
- ARIM登録番号：HK-101 GFC装置番号：AP-200061
- メーカー名（英語表記）
- 日本FEI(FEI)
- 型番
- Titan3 G2 60-300
- 装置の特長及び仕様
・加速電圧：60kV-300kV
・TEM分解能：0.07nm、STEM分解能：0.07nm
・X-FEG電子銃
・モノクロメーター搭載
・照射系球面収差補正器
・結像系球面収差補正器
・Super-X EDS検出器
・Gatan GIF QuantumER分光器
・分析試料ホルダー、トモグラフィー試料ホルダー
・遠隔観察
・遠隔オペレーション装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1418
エリプソメータ Ellipsometry
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-706 GFC装置番号：AP-200058
- メーカー名（英語表記）
- 日本分光(JASCO)
- 型番
- M-500S
- 装置の特長及び仕様
Xe光源, 測定波長：350～800nm, 試料水平置き
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1415
EB加熱・抵抗加熱蒸着装置 EB gun/resistant heating-type vacuume evaporation system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-703 GFC装置番号：AP-200027
- メーカー名（英語表記）
- アルバック(Ujlvac)
- 型番
- EBX-8C
- 装置の特長及び仕様
電子線、抵抗加熱方式
蒸着源：EB４元・抵抗加熱1元
蒸着材料：Si、Al、Fe、 Mo、Auデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-703_EB_gun_resistant_heating-type_vacuum_evaporation_system_PDL
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https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1396
スピンコーター Spin coater
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-707
- メーカー名（英語表記）
- ミカサ(MIKASA)
- 型番
- MS-A150
- 装置の特長及び仕様
試料サイズ：最大4インチ
回転数：0-4000rpm
