共用装置
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電子ビーム描画装置(30kV) Electron-beam lithography system(30kV)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-701 GFC装置番号：AP-200018
- メーカー名（英語表記）
- エリオニクス(ELIONIX)
- 型番
- ELS-3700
- 装置の特長及び仕様
電子銃エミッター：LaB6
加速電圧：1～30kV
最小線幅：100nm
試料サイズ：最大4インチ
円弧スキャン可データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-701_電子ビーム描画_30kV_20250303
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1388
真空紫外露光装置 Vacuum ultraviolet light exposure system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-627 GFC装置番号：AP-100058
- メーカー名（英語表記）
- エヌ工房(N ceator)
- 型番
- PC-01-H
- 装置の特長及び仕様
試料サイズ：最大1インチ
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/58
EB加熱・抵抗加熱蒸着装置 EB gun/resistant heating-type vacuume evaporation system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-703 GFC装置番号：AP-200027
- メーカー名（英語表記）
- アルバック(Ujlvac)
- 型番
- EBX-8C
- 装置の特長及び仕様
電子線、抵抗加熱方式
蒸着源：EB４元・抵抗加熱1元
蒸着材料：Si、Al、Fe、 Mo、Auデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-703_EB加熱・抵抗加熱蒸着
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1396
両面マスクアライナ Double-side alignment Mask aligner
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-702 GFC装置番号：AP-200020
- メーカー名（英語表記）
- ズースマイクロテック(SUSS)
- 型番
- MA-6
- 装置の特長及び仕様
両面、露光精度0.6ミクロン
試料サイズ：最大6インチ
基板サイズ：不定形小片～150mm角データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-702_両面マスクアライナ
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1390
スピンコーター Spin coater
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-707
- メーカー名（英語表記）
- ミカサ(MIKASA)
- 型番
- MS-A150
- 装置の特長及び仕様
試料サイズ：最大4インチ
回転数：0-4000rpm
