共用装置
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スパッタ装置 Sputtering system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-704 GFC装置番号：AP-200068
- メーカー名（英語表記）
- 菅製作所(SUGA)
- 型番
- SSP3000Plus
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：1元、Au、Cr、FeNi、SiO2等
成膜温度：～300℃
最大試料料サイズ：φ 150mmデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-704_スパッタ
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1425
EB加熱・抵抗加熱蒸着装置 EB gun/resistant heating-type vacuume evaporation system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-703 GFC装置番号：AP-200027
- メーカー名（英語表記）
- アルバック(Ujlvac)
- 型番
- EBX-8C
- 装置の特長及び仕様
電子線、抵抗加熱方式
蒸着源：EB４元・抵抗加熱1元
蒸着材料：Si、Al、Fe、 Mo、Auデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-703_EB加熱・抵抗加熱蒸着
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1396
両面マスクアライナ Double-side alignment Mask aligner
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-702 GFC装置番号：AP-200020
- メーカー名（英語表記）
- ズースマイクロテック(SUSS)
- 型番
- MA-6
- 装置の特長及び仕様
両面、露光精度0.6ミクロン
試料サイズ：最大6インチ
基板サイズ：不定形小片～150mm角データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-702_両面マスクアライナ
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1390
パルスレーザー堆積装置 Pulse Laser Deposition system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-615 GFC装置番号：AP-200060
- メーカー名（英語表記）
- パスカル(Pascal)
- 型番
- PAC-LMBE
- 装置の特長及び仕様
レーザー光源：248nm
基板サイズ：
成膜材料：TiO2,STOなどデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-615_パルスレーザー堆積
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1417
原子層堆積装置 Atomic Layer Depositon system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-616 GFC装置番号：AP-200010
- メーカー名（英語表記）
- ピコサン(Picosun)
- 型番
- SUNALE-R
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：SiO2、TiO2、Al2O3他（原料持ち込み可）
試料サイズ：最大6インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-616_原子層堆積
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1381
