共用装置
分野から探す
光学干渉式膜厚計 Film thickness measurement instruments
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-626 GFC装置番号：AP-200077
- メーカー名（英語表記）
- フィルメトリクス(Filmetrics)
- 型番
- F20-UV
- 装置の特長及び仕様
膜厚測定範囲：1nm – 40µm
測定波長域：190-1100nm装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1453
イオンミリング装置 Ion milling system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-623 GFC装置番号：AP-200015
- メーカー名（英語表記）
- アルバック(Ulvac)
- 型番
- IBE-6000S
- 装置の特長及び仕様
使用ガス：Ar
試料サイズ：最大3インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-623_イオンミリング
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1386
ICP高密度プラズマエッチング装置（フッ素） ICP-RIE Etching Systems(F)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-620 GFC装置番号：AP-200012
- メーカー名（英語表記）
- サムコ(samco)
- 型番
- RIE-101iPH
- 装置の特長及び仕様
使用ガス：SF6,C4F8、CF4、Ar、O2、CHF3、C3F8
試料サイズ：最大４インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-620_ICP高密度プラズマエッチング（フッ素）
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1383
スピンコーター Spin coater
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-707
- メーカー名（英語表記）
- ミカサ(MIKASA)
- 型番
- MS-A150
- 装置の特長及び仕様
試料サイズ：最大4インチ
回転数：0-4000rpm
電子ビーム描画装置(30kV) Electron-beam lithography system(30kV)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-701 GFC装置番号：AP-200018
- メーカー名（英語表記）
- エリオニクス(ELIONIX)
- 型番
- ELS-3700
- 装置の特長及び仕様
電子銃エミッター：LaB6
加速電圧：1～30kV
最小線幅：100nm
試料サイズ：最大4インチ
円弧スキャン可データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-701_電子ビーム描画_30kV_20250303
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1388
