共用装置
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真空蒸着装置 Vacuume evaporation system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-608 GFC装置番号：AP-200005
- メーカー名（英語表記）
- サンバック(SANVAC)
- 型番
- ED-1500R
- 装置の特長及び仕様
蒸着源:抵抗加熱3元、EB3元
基板加熱可
水晶振動式膜厚計データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-608_真空蒸着装置
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1376
液体ソースプラズマCVD装置 Liquid Source CVD Systems
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-614 GFC装置番号：AP-200007
- メーカー名（英語表記）
- サムコ(samco)
- 型番
- PD-10C1
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：SiO2他（原料持ち込み可）
キャリアガス：N2,He,Ar,H2
試料サイズ：最大3インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-614_液体ソースプラズマCVD
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1378
プラズマCVD装置 Plasma Enhanced CVD system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-613 GFC装置番号：AP-200006
- メーカー名（英語表記）
- サムコ(samco)
- 型番
- PD-220ESN
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：SiO2、SiN
試料サイズ：最大8インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-613_プラズマCVD
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1377
ヘリコンスパッタリング装置 Helicon sputtering system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-609 GFC装置番号：AP-200008
- メーカー名（英語表記）
- アルバック(Ulvac)
- 型番
- MPS-4000C1/HC1
- 装置の特長及び仕様
カソード：3元（マグネトロン4インチ、ヘリコンDC2インチ、ヘリコンRF2インチ）
成膜材料：Au,Cr,Ti
試料サイズ：最大4インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-609_ヘリコンスパッタ
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1379
多元スパッタ装置 Multi-target Sputtering sysutem
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-611 GFC装置番号：AP-200072
- メーカー名（英語表記）
- アルバック(Ulvac)
- 型番
- QAM-4-STS
- 装置の特長及び仕様
カソード7元（ヘリコン2台含む）
試料：小片～最大Φ100㎜
垂直成膜可能（25mm角まで）
コスパッタ（DC/RF)、逆スパッタ
ターゲット：Au、Cr、Pt、Ag他
700度加熱可能
ラジカルイオンガン搭載（N,O)データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-611_多元スパッタ
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1448
