共用装置
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プラズマCVD装置 Plasma Enhanced CVD system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-613 GFC装置番号：AP-200006
- メーカー名（英語表記）
- サムコ(samco)
- 型番
- PD-220ESN
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：SiO2、SiN
試料サイズ：最大8インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-613_プラズマCVD
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1377
イオンビームスパッタ装置 Ion beam sputtering system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-612 GFC装置番号：AP-200009
- メーカー名（英語表記）
- アルバック(Ulvac)
- 型番
- IBS-6000
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：4元、Ni,Cr,SiO2、W-Si他
試料サイズ：最大3インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-612_イオンビームスパッタ
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1380
顕微紫外近赤外分光装置 UV/Vis/NIR Microscopic Spectrophotometer
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-409
- メーカー名（英語表記）
- 日本分光(JASCO)
- 型番
- MSV-5200
- 装置の特長及び仕様
反射、透過測定
光電子増倍管、冷却型PbS光導電素子
測定波長域：200nm-2700nm
カセグレン対物32倍
自動XYZステージ
超高精度電子ビーム描画装置(100kV) Ultra-high precision electron-beam lithography system(100kV)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-601 GFC装置番号：AP-200002
- メーカー名（英語表記）
- エリオニクス(ELIONIX)
- 型番
- ELS-7000HM
- 装置の特長及び仕様
加速電圧：100kV
試料サイズ：最大6インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-601_超高精度電子ビーム描画(100kV)
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1373
超高精度電子ビーム描画装置(125kV) Ultra-high precision electron-beam lithography system(125kV)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-602 GFC装置番号：AP-200001
- メーカー名（英語表記）
- エリオニクス(ELIONIX)
- 型番
- ELS-F125
- 装置の特長及び仕様
加速電圧：125kV
試料サイズ：最大6インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-602_超高精度電子ビーム描画(125kV)
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1372
