共用装置
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超高速スキャン電子線描画装置(130kV) High-speed scanning electron-beam lithography system(130kV)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-603 GFC装置番号：AP-200059
- メーカー名（英語表記）
- エリオニクス(ELIONIX)
- 型番
- ELS-F130HM
- 装置の特長及び仕様
加速電圧：130kV
試料サイズ：最大8インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-603_EB超高速スキャン電子線描画(130kV)
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1416
レーザー描画装置 Laser lithography system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-604 GFC装置番号：AP-200080
- メーカー名（英語表記）
- ハイデルベルグ(Heidelberg)
- 型番
- DWL66+
- 装置の特長及び仕様
光源：405nm半導体レーザー
描画エリア：最大8インチ角
最小描画線幅：0.3ミクロン(HiRes)、0.8ミクロン（WMII）
255階調グレースケールモード搭載
バックアライメント機能データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-604_レーザー描画
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1520
レーザー直接描画装置 Laser direct lithography system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-605 GFC装置番号：AP-200004
- メーカー名（英語表記）
- ネオアーク(NEOARK)
- 型番
- DDB-201
- 装置の特長及び仕様
光源：375nm半導体レーザー
描画エリア：最大50mm
試料サイズ：最大6インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-605_レーザー直接描画
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1375
EB蒸着装置 EB vacuume evaporation system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-607 GFC装置番号：AP-200074
- メーカー名（英語表記）
- エイコー(Eiko)
- 型番
- EB-580S
- 装置の特長及び仕様
蒸着源:Au,Ti,Al,Cu,Nb
基板加熱可(600℃程度まで)
水晶振動式膜厚計データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-607_EB蒸着
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1450
真空蒸着装置 Vacuume evaporation system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-608 GFC装置番号：AP-200005
- メーカー名（英語表記）
- サンバック(SANVAC)
- 型番
- ED-1500R
- 装置の特長及び仕様
蒸着源:抵抗加熱3元、EB3元
基板加熱可
水晶振動式膜厚計データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-608_真空蒸着装置
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1376
