共用装置
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原子層堆積装置（粉末対応型） Atomic Layer Depositon system (Powder)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-617 GFC装置番号：AP-200078
- メーカー名（英語表記）
- ピコサン(Picosun)
- 型番
- R-200 Advanced
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：TiO2、Al2O3
試料サイズ：最大8インチ、粉末試料（1g～15g)データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-617_原子層堆積（粉末対応型）
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1454
プラズマ原子層堆積装置 Plasma Enhanced ALD system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-618 GFC装置番号：AP-200083
- メーカー名（英語表記）
- サムコ(samco)
- 型番
- AD-230LP
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：Al2O3他
試料サイズ：最大8インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-618_プラズマ原子層堆積
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/rsv_top/1552
ICP高密度プラズマエッチング装置（塩素） ICP-RIE Etching Systems(Cl)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-619 GFC装置番号：AP-200067
- メーカー名（英語表記）
- サムコ(samco)
- 型番
- RIE-101iHS
- 装置の特長及び仕様
使用ガス：Ar、O2、SiCl4、Cl2
試料サイズ：最大４インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-619_ICP高密度プラズマエッチング（塩素）
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1424
コンパクトスパッタ装置 Compact Sputter
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-610 GFC装置番号：AP-200066
- メーカー名（英語表記）
- アルバック(Ulvac)
- 型番
- ACS-4000-C3-HS
- 装置の特長及び仕様
カソード4元（DC3元、RF1元）
成膜材料：SiO2、Au,Cr、Mo等
基板サイズ：10mm～4インチ（リフトオフ仕様では25mm角まで）
基板加熱機構有り（～550℃）データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-610_コンパクトスパッタ
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1423
X線光電子分光装置 X-ray photoelectron spectrometer
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-406 GFC装置番号：AP-200082
- メーカー名（英語表記）
- 日本電子(JEOL)
- 型番
- JPS-9200
- 装置の特長及び仕様
標準X線源Mg/Alツインアノード
モノクロX線源
エネルギー分解能:0.65eV（モノクロX線源）
アルゴンイオンエッチング銃
分析径:30µmφ～3㎜φ
最大20点まで連続分析可、分析エリア:20㎜×50㎜装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1550
