共用装置

コンパクトスパッタ装置 Compact Sputter

機器ID
ARIM装置番号:HK-610 GFC装置番号:AP-200066
メーカー名(英語表記)
アルバック(Ulvac)
型番
ACS-4000-C3-HS
装置の特長及び仕様

カソード4元(DC3元、RF1元)
成膜材料:SiO2、Au,Cr、Mo等
基板サイズ:10mm~4インチ(リフトオフ仕様では25mm角まで)
基板加熱機構有り(~550℃)

データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-610_Compact_sputter_PDL

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1423

精密イオン研磨装置 Precision ion polishing system

機器ID
ARIM装置番号:HK-407 GFC装置番号:AP-200079
メーカー名(英語表記)
ガタン(Gatan)
型番
PIPSII
装置の特長及び仕様

イオン加速電圧:1 ~ 6 kV
イオン入射角:最大±10°
液体窒素冷却装置
TVカメラ

 

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X線光電子分光装置 X-ray photoelectron spectrometer

機器ID
ARIM装置番号:HK-406 GFC装置番号:AP-200082
メーカー名(英語表記)
日本電子(JEOL)
型番
JPS-9200
装置の特長及び仕様

標準X線源Mg/Alツインアノード
モノクロX線源
エネルギー分解能:0.65eV(モノクロX線源)
アルゴンイオンエッチング銃
分析径:30µmφ~3㎜φ
最大20点まで連続分析可、分析エリア:20㎜×50㎜

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時間分解収差補正光電子顕微鏡システム Time-resolved photoelectron emission microscope

機器ID
ARIM装置番号:HK-405 GFC装置番号:AP-200056
メーカー名(英語表記)
エルミテック(Elmitec)
型番
AC-PEEMIII
装置の特長及び仕様

空間分解能:4nm以下
時間分解能:10fs以下
LEEM機能

 

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超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡 High resolution Field-emission scanning electron microscope

機器ID
ARIM装置番号:HK-404 GFC装置番号:AP-200071
メーカー名(英語表記)
日立ハイテク(Hitachi High-Tech)
型番
Regulus8230
装置の特長及び仕様

加速電圧:0.5~30kV
分析機能:EDS
STEM機能
試料サイズ:6インチまで
遠隔画面共有

 

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