共用装置
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ヘリコンスパッタリング装置 Helicon sputtering system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-609 GFC装置番号：AP-200008
- メーカー名（英語表記）
- アルバック(Ulvac)
- 型番
- MPS-4000C1/HC1
- 装置の特長及び仕様
カソード：3元（マグネトロン4インチ、ヘリコンDC2インチ、ヘリコンRF2インチ）
成膜材料：Au,Cr,Ti
試料サイズ：最大4インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-609_ヘリコンスパッタ
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1379
コンパクトスパッタ装置 Compact Sputter
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-610 GFC装置番号：AP-200066
- メーカー名（英語表記）
- アルバック(Ulvac)
- 型番
- ACS-4000-C3-HS
- 装置の特長及び仕様
カソード4元（DC3元、RF1元）
成膜材料：SiO2、Au,Cr、Mo等
基板サイズ：10mm～4インチ（リフトオフ仕様では25mm角まで）
基板加熱機構有り（～550℃）データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-610_コンパクトスパッタ
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1423
多元スパッタ装置 Multi-target Sputtering sysutem
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-611 GFC装置番号：AP-200072
- メーカー名（英語表記）
- アルバック(Ulvac)
- 型番
- QAM-4-STS
- 装置の特長及び仕様
カソード7元（ヘリコン2台含む）
試料：小片～最大Φ100㎜
垂直成膜可能（25mm角まで）
コスパッタ（DC/RF)、逆スパッタ
ターゲット：Au、Cr、Pt、Ag他
700度加熱可能
ラジカルイオンガン搭載（N,O)データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-611_多元スパッタ
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1448
電界放出形電子プローブマイクロアナライザー Field emission electron probe micro analyzer (FE-EPMA)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-303 GFC装置番号：AP-200045
- メーカー名（英語表記）
- 日本電子(JEOL)
- 型番
- JXA-8530F
- 装置の特長及び仕様
加速電圧：1～30kV
分析機能：WDS装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1406
電界放出形走査電子顕微鏡 Field-emission scanning electron microscope (FE-SEM)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-302 GFC装置番号：AP-200034
- メーカー名（英語表記）
- 日本電子(JEOL)
- 型番
- JSM-6500F
- 装置の特長及び仕様
加速電圧：1kV～30kV
分析機能：EDS, EBSD装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1399
