共用装置
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プラズマCVD装置 Plasma Enhanced CVD system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-613 GFC装置番号：AP-200006
- メーカー名（英語表記）
- サムコ(samco)
- 型番
- PD-220ESN
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：SiO2、SiN
試料サイズ：最大8インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-613_Plasma_enhanced_CVD_system_PDL
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1377
液体ソースプラズマCVD装置 Liquid Source CVD Systems
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-614 GFC装置番号：AP-200007
- メーカー名（英語表記）
- サムコ(samco)
- 型番
- PD-10C1
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：SiO2他（原料持ち込み可）
キャリアガス：N2,He,Ar,H2
試料サイズ：最大3インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-614_Liquid_source_CVD_system_PDL
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1378
真空蒸着装置 Vacuume evaporation system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-608 GFC装置番号：AP-200005
- メーカー名（英語表記）
- サンバック(SANVAC)
- 型番
- ED-1500R
- 装置の特長及び仕様
蒸着源:抵抗加熱3元、EB3元
基板加熱可
水晶振動式膜厚計データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-608_Vacuum_evaporation_system_PDL
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1376
マスクアライナ Mask aligner
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-606 GFC装置番号：AP-200003
- メーカー名（英語表記）
- ミカサ(MIKASA)
- 型番
- MA-20
- 装置の特長及び仕様
コンタクト露光
試料サイズ：最大4インチ
マスクサイズ：最大5インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-606_Mask_aligner_PDL
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1374
レーザー直接描画装置 Laser direct lithography system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-605 GFC装置番号：AP-200004
- メーカー名（英語表記）
- ネオアーク(NEOARK)
- 型番
- DDB-201
- 装置の特長及び仕様
光源：375nm半導体レーザー
描画エリア：最大50mm
試料サイズ：最大6インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-605_Laser_direct_lithography_system_PDL
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1375
