共用装置
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原子層堆積装置（粉末対応型） Atomic Layer Depositon system (Powder)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-617 GFC装置番号：AP-200078
- メーカー名（英語表記）
- ピコサン(Picosun)
- 型番
- R-200 Advanced
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：TiO2、Al2O3
試料サイズ：最大8インチ、粉末試料（1g～15g)データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-617_原子層堆積（粉末対応型）
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1454
プラズマ原子層堆積装置 Plasma Enhanced ALD system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-618 GFC装置番号：AP-200083
- メーカー名（英語表記）
- サムコ(samco)
- 型番
- AD-230LP
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：Al2O3他
試料サイズ：最大8インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-618_プラズマ原子層堆積
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/rsv_top/1552
ICP高密度プラズマエッチング装置（塩素） ICP-RIE Etching Systems(Cl)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-619 GFC装置番号：AP-200067
- メーカー名（英語表記）
- サムコ(samco)
- 型番
- RIE-101iHS
- 装置の特長及び仕様
使用ガス：Ar、O2、SiCl4、Cl2
試料サイズ：最大４インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-619_ICP高密度プラズマエッチング（塩素）
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1424
マスクアライナ Mask aligner
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-606 GFC装置番号：AP-200003
- メーカー名（英語表記）
- ミカサ(MIKASA)
- 型番
- MA-20
- 装置の特長及び仕様
コンタクト露光
試料サイズ：最大4インチ
マスクサイズ：最大5インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-606_マスクアライナ
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1374
液体ソースプラズマCVD装置 Liquid Source CVD Systems
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-614 GFC装置番号：AP-200007
- メーカー名（英語表記）
- サムコ(samco)
- 型番
- PD-10C1
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：SiO2他（原料持ち込み可）
キャリアガス：N2,He,Ar,H2
試料サイズ：最大3インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-614_液体ソースプラズマCVD
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1378
