共用装置

光学干渉式膜厚計 Film thickness measurement instruments

機器ID
ARIM装置番号:HK-626 GFC装置番号:AP-200077
メーカー名(英語表記)
フィルメトリクス(Filmetrics)
型番
F20-UV
装置の特長及び仕様

膜厚測定範囲:1nm – 40µm
測定波長域:190-1100nm

 

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1453

真空紫外露光装置 Vacuum ultraviolet light exposure system

機器ID
ARIM装置番号:HK-627 GFC装置番号:AP-100058
メーカー名(英語表記)
エヌ工房(N ceator)
型番
PC-01-H
装置の特長及び仕様

試料サイズ:最大1インチ

 

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/58

コンパクトスパッタ装置 Compact Sputter

機器ID
ARIM装置番号:HK-610 GFC装置番号:AP-200066
メーカー名(英語表記)
アルバック(Ulvac)
型番
ACS-4000-C3-HS
装置の特長及び仕様

カソード4元(DC3元、RF1元)
成膜材料:SiO2、Au,Cr、Mo等
基板サイズ:10mm~4インチ(リフトオフ仕様では25mm角まで)
基板加熱機構有り(~550℃)

データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-610_コンパクトスパッタ

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

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多元スパッタ装置 Multi-target Sputtering sysutem

機器ID
ARIM装置番号:HK-611 GFC装置番号:AP-200072
メーカー名(英語表記)
アルバック(Ulvac)
型番
QAM-4-STS
装置の特長及び仕様

カソード7元(ヘリコン2台含む)
試料:小片~最大Φ100㎜
垂直成膜可能(25mm角まで)
コスパッタ(DC/RF)、逆スパッタ
ターゲット:Au、Cr、Pt、Ag他
700度加熱可能
ラジカルイオンガン搭載(N,O)

データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-611_多元スパッタ

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イオンビームスパッタ装置 Ion beam sputtering system

機器ID
ARIM装置番号:HK-612 GFC装置番号:AP-200009
メーカー名(英語表記)
アルバック(Ulvac)
型番
IBS-6000
装置の特長及び仕様

成膜材料:4元、Ni,Cr,SiO2、W-Si他
試料サイズ:最大3インチ

データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-612_イオンビームスパッタ

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