共用装置

イオンミリング装置 Ion milling system

機器ID
ARIM装置番号:HK-623 GFC装置番号:AP-200015
メーカー名(英語表記)
アルバック(Ulvac)
型番
IBE-6000S
装置の特長及び仕様

使用ガス:Ar
試料サイズ:最大3インチ

データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-623_Ion_milling_system_PDL

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1386

光学干渉式膜厚計 Film thickness measurement instruments

機器ID
ARIM装置番号:HK-626 GFC装置番号:AP-200077
メーカー名(英語表記)
フィルメトリクス(Filmetrics)
型番
F20-UV
装置の特長及び仕様

膜厚測定範囲:1nm – 40µm
測定波長域:190-1100nm

 

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スピンコーター Spin coater

機器ID
ARIM装置番号:HK-707
メーカー名(英語表記)
ミカサ(MIKASA)
型番
MS-A150
装置の特長及び仕様

試料サイズ:最大4インチ
回転数:0-4000rpm

真空紫外露光装置 Vacuum ultraviolet light exposure system

機器ID
ARIM装置番号:HK-627 GFC装置番号:AP-100058
メーカー名(英語表記)
エヌ工房(N ceator)
型番
PC-01-H
装置の特長及び仕様

試料サイズ:最大1インチ

 

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EB加熱・抵抗加熱蒸着装置 EB gun/resistant heating-type vacuume evaporation system

機器ID
ARIM装置番号:HK-703 GFC装置番号:AP-200027
メーカー名(英語表記)
アルバック(Ujlvac)
型番
EBX-8C
装置の特長及び仕様

電子線、抵抗加熱方式
蒸着源:EB4元・抵抗加熱1元
蒸着材料:Si、Al、Fe、 Mo、Au

データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-703_EB_gun_resistant_heating-type_vacuum_evaporation_system_PDL

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