共用装置

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ガラスインプリント装置

機器ID
ARIM装置番号：HK-629　GFC装置番号 ：AP-200086
メーカー名（英語表記）
芝浦機械株式会社(SHIBAURA MACHINE CO., LTD.)
型番
GMP-415V
装置の特長及び仕様

温度範囲 0℃～800℃ (室温～800℃)
温度制御時間：0～999sec
軸ストローク：0～85mm
プレス力：0～40 kN
軸速度：0～15 mm/sec
真空到達度：0.001～100 Pa
サンプルサイズ：25mm角

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/rsv_top/1555

量子・電子制御ナノマテリアル顕微物性測定装置

機器ID
ARIM装置番号：HK-107　GFC装置番号：AP-200085
メーカー名（英語表記）
日本電子(JEOL)
型番
JEM-ARM200F NEOARM
装置の特長及び仕様

加速電圧：200 kV, 80kV
分解能：STEM HAADF像 70pm(200kV), 100pm(80kV),
TEM情報限界 100pm(200kV), 110pm(80kV),
電子銃：冷陰極電解放出形電子銃
オプション：EDS、加熱・バイアス印加TEM二軸傾斜ホルダー

超高圧電子顕微鏡室 denken[at]eng.hokudai.ac.jpへお問い合わせください。

集束イオンビーム加工観察装置

機器ID
ARIM装置番号：HK-105　GFC装置番号 ：AP-200081
メーカー名（英語表記）
日本電子(JEOL)
型番
JEM-9320FIB
装置の特長及び仕様

イオン源：Ga液体金属イオン源
加速電圧：5～30kV(5kVステップ)
倍率：×50(視野探し)、×150～300,000
像分解能：6nm(30kV時)
稼働絞り5段(モーター駆動)
イオンビーム加工形状：矩形、ライン、スポット
試料ステージ：TEM試料サイドエントリー、ゴニオメータステージ

超高圧電子顕微鏡室 denken[at]eng.hokudai.ac.jpへお問い合わせください。

ダブル球面収差補正走査透過型電子顕微鏡 Double Cs-corrected scanning transmission electron microscope

機器ID
ARIM登録番号：HK-101　GFC装置番号：AP-200061
メーカー名（英語表記）
日本FEI(FEI)
型番
Titan3 G2 60-300
装置の特長及び仕様

・加速電圧：60kV-300kV
・TEM分解能：0.07nm、STEM分解能：0.07nm
・X-FEG電子銃
・モノクロメーター搭載
・照射系球面収差補正器
・結像系球面収差補正器
・Super-X EDS検出器
・Gatan GIF QuantumER分光器
・分析試料ホルダー、トモグラフィー試料ホルダー
・遠隔観察
・遠隔オペレーション

 

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1418

スパッタ装置 Sputtering system

機器ID
ARIM装置番号：HK-704　GFC装置番号：AP-200068
メーカー名（英語表記）
菅製作所(SUGA)
型番
SSP3000Plus
装置の特長及び仕様

成膜材料：1元、Au、Cr、FeNi、SiO2等
成膜温度：～300℃
最大試料料サイズ：φ 150mm

データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-704_スパッタ

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1425