共用装置

分野から探す

集束イオンビーム加工観察装置

機器ID
ARIM装置番号：HK-105　GFC装置番号 ：AP-200081
メーカー名（英語表記）
日本電子(JEOL)
型番
JEM-9320FIB
装置の特長及び仕様

イオン源：Ga液体金属イオン源
加速電圧：5～30kV(5kVステップ)
倍率：×50(視野探し)、×150～300,000
像分解能：6nm(30kV時)
稼働絞り5段(モーター駆動)
イオンビーム加工形状：矩形、ライン、スポット
試料ステージ：TEM試料サイドエントリー、ゴニオメータステージ

超高圧電子顕微鏡室 denken[at]eng.hokudai.ac.jpへお問い合わせください。

ダブル球面収差補正走査透過型電子顕微鏡 Double Cs-corrected scanning transmission electron microscope

機器ID
ARIM登録番号：HK-101　GFC装置番号：AP-200061
メーカー名（英語表記）
日本FEI(FEI)
型番
Titan3 G2 60-300
装置の特長及び仕様

・加速電圧：60kV-300kV
・TEM分解能：0.07nm、STEM分解能：0.07nm
・X-FEG電子銃
・モノクロメーター搭載
・照射系球面収差補正器
・結像系球面収差補正器
・Super-X EDS検出器
・Gatan GIF QuantumER分光器
・分析試料ホルダー、トモグラフィー試料ホルダー
・遠隔観察
・遠隔オペレーション

 

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1418

ダイシングソー Dicing Saw

機器ID
ARIM装置番号：HK-705　GFC装置番号：AP-200069
メーカー名（英語表記）
ディスコ(DISCO)
型番
DAD322
装置の特長及び仕様

セミオートマチック
切削可能範囲(x,y)：150mm
最大ストローク(z)：32mm

 

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1426

両面マスクアライナ Double-side alignment Mask aligner

機器ID
ARIM装置番号：HK-702　GFC装置番号：AP-200020
メーカー名（英語表記）
ズースマイクロテック(SUSS)
型番
MA-6
装置の特長及び仕様

両面、露光精度0.6ミクロン
試料サイズ：最大6インチ
基板サイズ：不定形小片～150mm角

データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-702_両面マスクアライナ

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1390

エリプソメータ Ellipsometry

機器ID
ARIM装置番号：HK-706　GFC装置番号：AP-200058
メーカー名（英語表記）
日本分光(JASCO)
型番
M-500S
装置の特長及び仕様

Xe光源, 測定波長：350～800nm, 試料水平置き

 

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1415