≪終了≫EB・レーザー描画ハンズオンセミナーを開催いたします

下記の日時にて【EB・レーザー描画ハンズオンセミナー】を開催いたします。
是非ともご参加ください。

【EB・レーザー描画ハンズオンセミナー】
＜ご案内：第2回ARIM量子・電子マテリアル領域セミナー　電子ビーム・レーザー描画技術　～グレースケール露光による3次元構造物の作製～ (tia-kyoyo.jp)＞

■概要

　物質・材料研究機構、産業技術総合研究所、東京工業大学、北海道大学は、令和3年度からスタートした文部科学省委託事業　である「マテリアル先端リサーチインフラ事業」の一環として、オンラインによる技術セミナー『電子ビーム・レーザー描画技術～グレースケール露光による3次元構造物の作製～』を2023年1月25日（水）に開催いたします。電子ビーム・レーザーリソグラフィの基本概念や近接効果補正による描画データ最適化の講演に加え、3次元構造物の作製事例についてもご紹介いたします。産学官いずれのご所属の方にも奮ってのご参加をお待ちしております。

また、本セミナーではエリオニクス社製の電子ビーム描画装置（ELS-BODEN100）やハイデルベルグ・インストルメンツ 社製のレーザー描画装置（DWL66+）を使ったリソグラフィー実習コースをご用意致しました。オンラインセミナーへの参加が条件となりますが、実習コースについてもご参加をお待ちしております。

＜セミナー＞

■日時

　2023年1月25日(水)13:30～15:30

■Teamsによるオンライン

　＊決定し次第掲載します。

■定員
　100名（先着順、参加登録をお願いします）
　※ ご登録はこちらから

■講演プログラム（案）

　13:30-13:35（ 5分）　オープニング：NIMS津谷様 or 今中様

　13:35-14:00（25分）　GenISys（清水様）：BEAMERの紹介（タイトル未定）

　14:00-14:25（25分）　BushClover（新関様）：EBのグレースケール露光（タイトル未定）

　14:25-14:45（20分）　東工大（宮本先生）：EB描画技術（タイトル未定）

　14:45-15:05（20分）　産総研（有本様）：レーザー描画のグレースケール露光（タイトル未定）

　15:05-15:15（10分）　北大（松尾先生）：北海道大学の施設・技術紹介（タイトル未定）

　15:15-15:25（10分）　NIMS（渡辺様）：NIMSの施設・技術紹介（タイトル未定）

　15:25-15:30（ 5分）　クロージング：NIMS津谷様 or 今中様

　※合計120分（各持ち時間は質疑込み）


＜実習コース＞

■日時
　2023年1月26日（木）10:00～17:00

■場所
　① 電子ビーム描画実習コース：物質・材料研究機構 並木地区 MANA棟507室（クリーンルーム）
　② レーザー描画実習コース：物質・材料研究機構 千現地区 材料信頼性実験棟102室（クリーンルーム）

■参加費
　無料

■定員
　各コース3名

■実習の概要
　〇電子ビーム描画実習コース
　　　エリオニクス社製の電子ビーム描画装置（ELS-BODEN100）を使ったグレースケール露光による3次元構造パターンの作製につ
　　　いて実習いたします。レジスト感度曲線の取得からBEAMER（GenISys社製）による描画データの補正方法を実習し、実際に3
　　　次元構造パターン（回折光学素子（DOE）など）を作製いたします。

　〇レーザー描画実習コース
　　　ハイデルベルグ・インストルメンツ社製のレーザー描画装置（DWL 66+）を使ったグレースケール露光による3次元構造パターン
　　　の作製について実習いたします。レジスト感度曲線の取得からBEAMER（GenISys社製）による描画データの補正方法を
　　　実習し、実際に3次元構造パターン（マイクロレンズアレイなど）を作製いたします。


＜主催・共催・協賛＞
【主催】 物質・材料研究機構 ARIMインフラ共用チーム
【主催】 産業技術総合研究所TIA推進センター
　　　 ナノプロセシング施設（NPF）
【主催】 東京工業大学 科学技術創成研究院未来産業技術研究所
【主催】 北海道大学 創成研究機構　ナノテクノロジー連携研究推進室
【共催】 GenISys株式会社
【共催】 Bush Clover株式会社
【共催】 TIA
【協賛】 TSCナノエレクトロニクス計測分析技術研究会