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リソグラフィ
レジスト処理装置
スピンコーター Spin coater
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-707
- メーカー名（英語表記）
- ミカサ(MIKASA)
- 型番
- MS-A150
- 装置の特長及び仕様
試料サイズ：最大4インチ
回転数：0-4000rpm
電子線描画（EB）
電子ビーム描画装置(30kV) Electron-beam lithography system(30kV)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-701 GFC装置番号：AP-200018
- メーカー名（英語表記）
- エリオニクス(ELIONIX)
- 型番
- ELS-3700
- 装置の特長及び仕様
電子銃エミッター：LaB6
加速電圧：1～30kV
最小線幅：100nm
試料サイズ：最大4インチ
円弧スキャン可データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-701_電子ビーム描画(30kV)
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1388
超高精度電子ビーム描画装置(100kV) Ultra-high precision electron-beam lithography system(100kV)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-601 GFC装置番号：AP-200002
- メーカー名（英語表記）
- エリオニクス(ELIONIX)
- 型番
- ELS-7000HM
- 装置の特長及び仕様
加速電圧：100kV
試料サイズ：最大6インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-601_超高精度電子ビーム描画(100kV)
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1373
超高精度電子ビーム描画装置(125kV) Ultra-high precision electron-beam lithography system(125kV)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-602 GFC装置番号：AP-200001
- メーカー名（英語表記）
- エリオニクス(ELIONIX)
- 型番
- ELS-F125
- 装置の特長及び仕様
加速電圧：125kV
試料サイズ：最大6インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-602_超高精度電子ビーム描画(125kV)
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1372
超高速スキャン電子線描画装置(130kV) High-speed scanning electron-beam lithography system(130kV)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-603 GFC装置番号：AP-200059
- メーカー名（英語表記）
- エリオニクス(ELIONIX)
- 型番
- ELS-F130HM
- 装置の特長及び仕様
加速電圧：130kV
試料サイズ：最大8インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-603_EB超高速スキャン電子線描画(130kV)
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1416
光露光（マスクレス、直接描画）
レーザー描画装置 Laser lithography system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-604 GFC装置番号：AP-200080
- メーカー名（英語表記）
- ハイデルベルグ(Heidelberg)
- 型番
- DWL66+
- 装置の特長及び仕様
光源：405nm半導体レーザー
描画エリア：最大8インチ角
最小描画線幅：0.3ミクロン(HiRes)、0.8ミクロン（WMII）
255階調グレースケールモード搭載
バックアライメント機能データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-604_レーザー描画
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1520
レーザー直接描画装置 Laser direct lithography system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-605 GFC装置番号：AP-200004
- メーカー名（英語表記）
- ネオアーク(NEOARK)
- 型番
- DDB-201
- 装置の特長及び仕様
光源：375nm半導体レーザー
描画エリア：最大50mm
試料サイズ：最大6インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-605_レーザー直接描画
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1375
光露光（マスクアライナ）
両面マスクアライナ Double-side alignment Mask aligner
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-702 GFC装置番号：AP-200020
- メーカー名（英語表記）
- ズースマイクロテック(SUSS)
- 型番
- MA-6
- 装置の特長及び仕様
両面、露光精度0.6ミクロン
試料サイズ：最大6インチ
基板サイズ：不定形小片～150mm角データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-702_両面マスクアライナ
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https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1390
マスクアライナ Mask aligner
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-606 GFC装置番号：AP-200003
- メーカー名（英語表記）
- ミカサ(MIKASA)
- 型番
- MA-20
- 装置の特長及び仕様
コンタクト露光
試料サイズ：最大4インチ
マスクサイズ：最大5インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-606_マスクアライナ
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1374
