共用装置

リソグラフィ

光露光(マスクアライナ)

両面マスクアライナ Double-side alignment Mask aligner

機器ID
ARIM装置番号:HK-702 GFC装置番号:AP-200020
メーカー名(英語表記)
ズースマイクロテック(SUSS)
型番
MA-6
装置の特長及び仕様

両面、露光精度0.6ミクロン
試料サイズ:最大6インチ
基板サイズ:不定形小片~150mm角

データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-702_両面マスクアライナ

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1390

マスクアライナ Mask aligner

機器ID
ARIM装置番号:HK-606 GFC装置番号:AP-200003
メーカー名(英語表記)
ミカサ(MIKASA)
型番
MA-20
装置の特長及び仕様

コンタクト露光
試料サイズ:最大4インチ
マスクサイズ:最大5インチ

データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-606_マスクアライナ

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。

https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1374