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リソグラフィ
光露光（マスクレス、直接描画）
レーザー描画装置 Laser lithography system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-604 GFC装置番号：AP-200080
- メーカー名（英語表記）
- ハイデルベルグ(Heidelberg)
- 型番
- DWL66+
- 装置の特長及び仕様
光源：405nm半導体レーザー
描画エリア：最大8インチ角
最小描画線幅：0.3ミクロン(HiRes)、0.8ミクロン（WMII）
255階調グレースケールモード搭載
バックアライメント機能データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-604_レーザー描画
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1520
レーザー直接描画装置 Laser direct lithography system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-605 GFC装置番号：AP-200004
- メーカー名（英語表記）
- ネオアーク(NEOARK)
- 型番
- DDB-201
- 装置の特長及び仕様
光源：375nm半導体レーザー
描画エリア：最大50mm
試料サイズ：最大6インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-605_レーザー直接描画
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1375
