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成膜装置
化学蒸着(CVD)装置
プラズマCVD装置 Plasma Enhanced CVD system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-613 GFC装置番号：AP-200006
- メーカー名（英語表記）
- サムコ(samco)
- 型番
- PD-220ESN
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：SiO2、SiN
試料サイズ：最大8インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-613_プラズマCVD
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1377
液体ソースプラズマCVD装置 Liquid Source CVD Systems
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-614 GFC装置番号：AP-200007
- メーカー名（英語表記）
- サムコ(samco)
- 型番
- PD-10C1
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：SiO2他（原料持ち込み可）
キャリアガス：N2,He,Ar,H2
試料サイズ：最大3インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-614_液体ソースプラズマCVD
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1378
