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成膜装置
原子層堆積(ALD)装置
原子層堆積装置 Atomic Layer Depositon system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-616 GFC装置番号：AP-200010
- メーカー名（英語表記）
- ピコサン(Picosun)
- 型番
- SUNALE-R
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：SiO2、TiO2、Al2O3他（原料持ち込み可）
試料サイズ：最大6インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-616_原子層堆積
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1381
原子層堆積装置（粉末対応型） Atomic Layer Depositon system (Powder)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-617 GFC装置番号：AP-200078
- メーカー名（英語表記）
- ピコサン(Picosun)
- 型番
- R-200 Advanced
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：TiO2、Al2O3
試料サイズ：最大8インチ、粉末試料（1g～15g)データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-617_原子層堆積（粉末対応型）
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1454
プラズマ原子層堆積装置 Plasma Enhanced ALD system
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-618 GFC装置番号：AP-200083
- メーカー名（英語表記）
- サムコ(samco)
- 型番
- AD-230LP
- 装置の特長及び仕様
成膜材料：Al2O3他
試料サイズ：最大8インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-618_プラズマ原子層堆積
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/rsv_top/1552
