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リソグラフィ
電子線描画（EB）
電子線/レーザー描画露光現像シミュレータ（ソフトウェア） Exposure and development simulation software (compatible with EB and laser drawing)
- 機器ID
- ARIM登録番号：HK-XXX GFC装置番号：AP-200096
- メーカー名（英語表記）
- GenISys㈱
- 型番
- BEAMER Pro
- 装置の特長及び仕様
電子線描画時に生じる近接効果を補正して設計通りのパターンを電子線で描画するためのパターン補正システム。グレースケール露光用のデータ生成が可能。
● BEAMER Pro Package BLT01
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/2655
電子ビーム描画装置(30kV) Electron-beam lithography system(30kV)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-701 GFC装置番号：AP-200018
- メーカー名（英語表記）
- エリオニクス(ELIONIX)
- 型番
- ELS-3700
- 装置の特長及び仕様
電子銃エミッター：LaB6
加速電圧：1～30kV
最小線幅：100nm
試料サイズ：最大4インチ
円弧スキャン可データご提供用のエクセルファイルはこちらHK-701_電子ビーム描画_30kV_20250303
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1388
超高精度電子ビーム描画装置(100kV) Ultra-high precision electron-beam lithography system(100kV)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-601 GFC装置番号：AP-200002
- メーカー名（英語表記）
- エリオニクス(ELIONIX)
- 型番
- ELS-7000HM
- 装置の特長及び仕様
加速電圧：100kV
試料サイズ：最大6インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-601_超高精度電子ビーム描画_100kV_20250303
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1373
超高精度電子ビーム描画装置(125kV) Ultra-high precision electron-beam lithography system(125kV)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-602 GFC装置番号：AP-200001
- メーカー名（英語表記）
- エリオニクス(ELIONIX)
- 型番
- ELS-F125
- 装置の特長及び仕様
加速電圧：125kV
試料サイズ：最大6インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-602_超高精度電子ビーム描画(125kV)_20250303
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1372
超高速スキャン電子線描画装置(130kV) High-speed scanning electron-beam lithography system(130kV)
- 機器ID
- ARIM装置番号：HK-603 GFC装置番号：AP-200059
- メーカー名（英語表記）
- エリオニクス(ELIONIX)
- 型番
- ELS-F130HM
- 装置の特長及び仕様
加速電圧：130kV
試料サイズ：最大8インチデータご提供用のエクセルファイルはこちらHK-603_超高速スキャン高精度電子ビーム描画_130kV_20250303
装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/item/show/apparatus_list/1416
