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電子線/レーザー描画露光現像シミュレータ（ソフトウェア） Exposure and development simulation software (compatible with EB and laser drawing)

機器ID
ARIM登録番号：HK-XXX　GFC装置番号：AP-200096
メーカー名（英語表記）
GenISys㈱
型番
BEAMER Pro
装置の特長及び仕様

電子線描画時に生じる近接効果を補正して設計通りのパターンを電子線で描画するためのパターン補正システム。グレースケール露光用のデータ生成が可能。

● BEAMER Pro Package BLT01

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/2655

フッ化キセノンドライエッチング装置 Xenon Difluoride Dry Etching System

機器ID
ARIM登録番号：HK-XXX　GFC装置番号：AP-200095
メーカー名（英語表記）
サムコ株式会社
型番
VPE-4F
装置の特長及び仕様

フッ化キセノンガスによるシリコンの異方性ドライエッチング装置。完全ドライプロセスのため、スティッキングによる自立デバイスの破壊を抑制。プラズマを使用しないため、電解による素子へのダメージがない。Siのみと反応するため高い選択比が可能。

●反応室：Al製、φ150mm(内径)
●反応ガス：XeF2
●ガス圧力：400Pa

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。
https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/2654

触針式プロファイラー（段差計） Stylus Profiler

機器ID
ARIM登録番号：HK-XXX　GFC装置番号：AP-200092
型番
Alpha-Step D-500
装置の特長及び仕様

ワイドな垂直測定レンジ（最大1200μm）
優れた段差測定再現性（1σ＝0.5nm/1μm段差）
低針圧測定（0.03mg ～ 15mg）
観察用カラーカメラ（4Xデジタルズーム付）
キーストーン画像補正機能

nanolab@ist.hokudai.ac.jpへお問い合わせください。

ショットキー電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM) FE-SEM

機器ID
ARIM登録番号：HK-XXX　GFC装置番号：AP-200091
メーカー名（英語表記）
日本電子(JEOL)
型番
JSM7200F
装置の特長及び仕様

二次電子分解能:1.6nm 保証(加速電圧1kV) 1.0nm 保証(加速電圧20kV)
倍率:10-1,00,000 倍
加速電圧:0.01-30kV
試料ステージ:フルユーセントリック・ゴニオメーターステージ
試料移動範囲:X: 70mm Y: 50mm Z:2~41mm

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システムより承っております。https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/1612

紫外可視近赤外分光光度計（積分球付き） UV-visible near-infrared spectrophotometer (with integrating sphere)

機器ID
ARIM登録番号：HK-411　GFC装置番号：AP-200093
メーカー名（英語表記）
島津製作所(SHIMADZU)
型番
UV-3600i Plus / MPC-603A
装置の特長及び仕様

●測定波長範囲　 ：（直接受光）200 ～ 3300 nm
（積分球）　220 ～ 2600 nm
●最高分解　　　 ：　0.1nm
●測光方式　　　 ：　ダブルビーム
●検出器　　　　 ：　PMT、InGaAs、Pbs
●マルチパーパス大型試料室　MPC-603A 付

装置のお問い合わせ・ご予約は GFC総合システム(https://www.gfc.hokudai.ac.jp/system/openfacility/instruments/1617)より承っております。